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一、半导体洁净间的要求标准
1.空气洁净度等级：半导体洁净间对空气的洁净度要求非常高。一般来说，晶圆光刻、制造、测试等级为100级或1000级的洁净间，百级洁净间要求空气中0.5微米的尘埃粒子数不得超过每立方米3520个；等级为1000级的洁净间要求0.5微米的尘埃粒子数不得超过每立方米35200个。晶圆切割或封装工序一般需要等级为万级或十万级的洁净间，万级洁净间要求空气中0.5微米的尘埃粒子数不得超过每立方米352000个。十万级洁净间要求空气中0.5微米的尘埃粒子数不得超过每立方米3520000个。
2. 温度与湿度：半导体洁净间需要维持一定的温度和湿度。一般来说，100级洁净间内的温度应控制在22℃-26℃之间，相对湿度则应控制在45%RH-60%RH之间。更高的等级对温度和湿度控制的要求也更加严格。
3. 压差：不同级别的洁净间需要保持一定的压差。100级洁净间需要维持相对正压，压力差一般为1-1.5Pa。
4. 光照和通风：半导体洁净间需要有良好的通风和光照条件。一般来说，100级洁净间需要配备垂直或水平送风系统，以及高效过滤器进行空气过滤。同时，需要保证足够的自然光或人工光源。
二、半导体洁净间的设计
为了满足上述要求标准，半导体洁净间的设计必须精确细致。一般来说，设计时应考虑以下因素：
1. 布局：洁净间应按照生产流程进行合理布局。生产区域、辅助区域和生活区域应分开，并保持一定的距离。生产区域中，不同的工序应分开进行，以避免交叉污染。
2. 空气过滤系统：为了保证空气的洁净度，需要设置空气过滤系统。过滤系统应包括初效过滤器、中效过滤器、高效过滤器等部分，以确保进入洁净间的空气经过多级过滤处理。
3. 压差控制系统：为了维持不同级别的洁净间的压力平衡，需要设置压差控制系统。该系统应能够实时监测压力差的变化，并及时进行调整。
4. 照明和通风系统：照明和通风系统应与空气过滤系统一起设计，以保证洁净间的良好环境。通风系统应采用高效送风系统，以保持适当的空气流动。同时，应配备足够的光源，以保证生产区域的照度。
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